PVD物理氣相沉積是在基體表面沉積形成特定功能薄膜的一種技術(shù)，在特定環(huán)境下，把鍍料靶材加工至原子分子等結(jié)構(gòu)，并遷移沉積在基底材料上，形成薄膜。主要在涂覆工具、耐磨機(jī)械零部件、微電子、超導(dǎo)技術(shù)、光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

玻璃PVD退鍍(去除)主要在3C電子、顯示蓋板領(lǐng)域應(yīng)用較多，如攝像頭透光控、指紋模塊、開關(guān)面板等。常規(guī)采用化學(xué)退鍍液退鍍或超聲波退鍍(去除)，或多或少存在傷害玻璃基層、化學(xué)污染、成本等缺點(diǎn)。

華日采用皮秒紫外激光對退鍍(去除)進(jìn)行加工，原理是：外部光路將皮秒紫外激光聚焦至材料上，通過振鏡的加工路徑，不斷掃描燒蝕去除鍍層材料，達(dá)到退鍍(去除)效果。加工效率高，鍍層去除效果好，透光率可高于83%以上(目前超白玻璃透光率90%左右)，加工無玻璃基材損傷。

在激光加工中，主要對退鍍(去除)深度需要良好的把控，退鍍(去除)過深導(dǎo)致玻璃基材損傷并出現(xiàn)部分毛化效果，影響透光率；退鍍(去除)過淺對涂層去除不充分，影響透光率；需不斷調(diào)整光路參數(shù)。